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氫氧化鈣漿液精制生產(chǎn)中的定義流函數(shù)

        在進行氫氧化鈣漿液精制操作時,如果把旋液分離器中強旋流近似看作不定常數(shù)軸對稱流動,那么在圓柱體坐標中,可定義流函數(shù)為:

流函數(shù)

        根據(jù)家對旋流分離器中V1、V2的分布,便可獲取空間各點處的流函數(shù),將等流函數(shù)的點連成曲線便是實測的流線圖。局部二次流流態(tài)示意圖可見圖2。局部二次流主要有環(huán)形空間縱向流、溢流口短路流、底流口附近偏流等。具體情況如下:
圖2局部二次流流態(tài)示意圖        1、環(huán)形空間縱向流。在氫氧化鈣漿液制取過程中,旋液分離器頂板下部有優(yōu)異動緩慢的邊界層,它的靜壓隨半徑變化比中部強旋流靜壓變化更為平緩,于是對外側靜壓較高的流體向上流入此邊界層內起到一定促進作用,并沿邊界層向內側流動,遇溢流管壁而轉折向下,沿溢流管外壁下行,自下入口處進入溢流管,形成所謂的縱向環(huán)流。這與彎曲管道內形成的縱向環(huán)流相近。
        2、溢流管口附近短路流。溢流管下口處常存在較大向心徑向速度,從圖2可看出,旋流分離設備進料口速度越大,徑向向心速度就越大。此種大的徑向向心速度會將大量顆粒帶入溢流口中,從而很大程度上影響氫氧化鈣漿液制取時的分離效率。
        3、錐體下部底流口偏流。旋流分離設備下行流中一部分經(jīng)底流口排出,另一部分則轉折進入上行流,后者同時處于錐體部分較小空間,高速旋轉的流體在底流口出產(chǎn)生劇烈的動量交換及湍流能量耗散,令內旋流不平衡。另外因溢流管的軸線不會于圓錐體軸向完全重合,因此內旋流波動就會較大,偏斜的內旋流下端將呈“擺尾”現(xiàn)象,周期性掃到錐體壁上,形成較多的偏心縱向環(huán)流,它會把已濃集在器壁上的大顆粒重新?lián)P起并帶入上行旋流內,形成“返混”,此種現(xiàn)象將很大程度影響氫氧化鈣漿液分離效率。
        以上進行的氫氧化鈣漿液精制過程,勢必會應用到氫氧化鈣設備等相關部件,與其相關信息可參考:http://www.assaggino.com/products/3206.html

創(chuàng)建時間 2015-06-17 來源 回轉窯網(wǎng) 瀏覽
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